GE为全球先进的半导体制造商提供水净化系统




2010年7月5日——通用电气宣布已与GLOBALFOUNDRIES签署以下协议,GLOBALFOUNDRIES将为集团的新半导体制造工厂提供超纯水生产系统。目前,生产基地正处于建设阶段,将位于纽约萨拉托加县的路德森林科技园区。 GE将为第8家芯片工厂提供全面的超纯水系统解决方案,用于系统芯片设计,设备供应和安装,该工厂是一家市值46亿美元的新型计算机芯片制造商。新的生产基地目前是美国最大的经济发展项目,预计到2012年底将成为世界上最大,最先进的半导体晶圆生产基地。

“可靠稳定的超纯水处理系统将在第8晶圆厂的正常运行中发挥重要作用。我们选择GE是因为其丰富的工程经验,稳定可靠的技术支持和强大的现场服务能力。 ”

GLOBALFOUNDRIES第8晶圆厂的副总裁兼总经理Norm Armor表示。

GE先进的超纯水系统每天可处理数百万加仑的水,其高质量的废水将用于半导体制造。这显着降低了运营成本并显着提高了效率。

超纯水系统在半导体晶片的制造中起着至关重要的作用。在生产周期中,晶片与超纯水接触超过35次。任何一点的供水中断或不合格的水质都会影响晶圆的质量,甚至导致产品废料。 GLOBALFOUNDRIES需要一个24/7可靠的超纯水生产系统,以便可持续地生产高质量的半导体晶圆。

“我们很高兴能够帮助GLOBALFOUNDRIES 8th晶圆厂最大限度地提高能源和水的使用,同时降低工厂运营成本,这对实现GLOBALFOUNDRIES的环保目标至关重要。此举是针对该公司的全球半导体行业。成功的竞争至关重要,“GE发电和水处理,水处理和工艺部门全球副总裁Jeff Connelly说。 “该项目充分体现了半导体行业对水质的极其严格的要求,半导体行业的超纯水。对系统的需求将会增加。“GE的超纯水系统包括水处理技术,泵,储罐,紫外线消毒器,臭氧发生器,离子交换,超滤系统和气体传输膜系统,以及调试,操作和维护服务。









时间:2019-04-14 09:47:43 来源:双人牛牛 作者:匿名